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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统沉积系统
OpAL系统是一种直立式热原子层沉积(ALD)设备,配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD,在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积(ALD)设备
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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牛津仪器 牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积(ALD)设备,具有等离子体选项。它可以升级为等离子体ALD,这样就可以在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。这款紧凑型直接开放式热原子层沉积(ALD
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用存储电容电介质
所谓的原子层沉积技术,是指通过将气相前驱体交替脉冲通入反应室并在沉积基体表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜的一种方法。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用高K栅氧化物
原子层沉积(atomiclayer deposition,ALD)技术,亦称原子层外延(atomiclayer epitaxy,ALE)技术,是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用纳米多孔结构的涂层
并完善。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子
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原子层沉积(ALD)ForgeNanoTHEIA
THEIA 超快平面原子层沉积系统以高性能、稳定和灵活为特点,能够满足科学研究的各种需求,并且无缝衔接研发和生产之间的转换。产品规格:1. 专利技术SMFD-ALDTM,超快沉积速度为12-30nm
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ForgeNano原子层沉积(ALD)超快平面原子层沉积系统
THEIA 超快平面原子层沉积系统(ALD)是一款高性能、稳定、灵活、可靠且安全的研发型设备,具备工业生产解决方案的优势。THEIA 可以进行升级改造,以满足科学研究的各种需求,实现从“研发”到
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多功能台式原子层沉积系统原子层沉积(ALD)PANDORA
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统是一种卓越的研发工具,结合了粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术,可轻松在粉末和平面样品之间切换,而不影响研究效率。产品规格如下:1. 前驱体通道
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ForgeNano原子层沉积(ALD) 多功能台式原子层沉积系统
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统是一种高效的研发工具,将粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术结合在一起。该系统具有旋转式反应腔,可用于粉末样品的分散,同时也支持快速切换平面样品
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